Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm – Giải pháp xử lý bề mặt chính xác cho sản xuất 

Trong bối cảnh sản xuất công nghiệp ngày càng yêu cầu độ chính xác cao, khả năng kiểm soát ổn định và truy xuất dữ liệu minh bạch, Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm được phát triển như một giải pháp chuyên biệt cho xử lý và phun phủ bề mặt tinh vi. Thiết bị không chỉ đáp ứng các tiêu chuẩn kỹ thuật khắt khe mà còn sẵn sàng tích hợp sâu vào các hệ thống sản xuất thông minh.

1. Giới thiệu về Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm

Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm là hệ thống xử lý bề mặt sử dụng plasma có khe phun hẹp 2.5mm, cho phép tập trung năng lượng chính xác vào vùng xử lý mong muốn. Nhờ đó, thiết bị đặc biệt phù hợp với các chi tiết nhỏ, biên dạng phức tạp hoặc các ứng dụng yêu cầu kiểm soát vùng tác động nghiêm ngặt.

So với các dòng plasma phun phủ thông thường, Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm mang lại độ ổn định cao hơn, khả năng lặp lại tốt và dễ dàng tiêu chuẩn hóa trong dây chuyền sản xuất hàng loạt.

2. Nguyên lý hoạt động của Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm

Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm hoạt động dựa trên nguyên lý tạo plasma từ khí công nghệ dưới sự kiểm soát chính xác của áp suất và công suất nguồn. Khi plasma được tạo ra, các hạt mang năng lượng cao sẽ:

• Tương tác trực tiếp với bề mặt vật liệu

• Làm sạch vi mô và kích hoạt bề mặt

• Tạo điều kiện tối ưu cho các lớp phủ, keo hoặc vật liệu tiếp theo bám dính hiệu quả

Khe phun CVP 2.5mm giúp giới hạn chính xác vùng xử lý, giảm ảnh hưởng đến các khu vực xung quanh và nâng cao độ chính xác tổng thể của quy trình.

3. Tính năng nổi bật của Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm

Điều khiển thông minh – Chuẩn hóa quy trình

• Kiểm soát áp suất khí và công suất kỹ thuật số

• Hỗ trợ các cài đặt nâng cao cho từng ứng dụng cụ thể

• Nhiều chế độ vận hành: thủ công / tự động

• Cài đặt thời gian trễ linh hoạt, phù hợp nhịp sản xuất

Quản lý thông tin & truy xuất dữ liệu toàn diện

• Tùy chọn tích hợp hệ thống IO / MES

• Cập nhật trạng thái thiết bị theo thời gian thực

• Khả năng truy xuất (Traceability) cho từng chu kỳ xử lý

• Hiển thị trực tiếp áp suất khí và nguồn cấp điện

Cảnh báo & giám sát chủ động

• Cảnh báo ngưỡng trên và ngưỡng dưới

• Cảnh báo hư hỏng linh kiện

• Giám sát dữ liệu linh kiện theo thời gian thực, giảm rủi ro dừng máy đột ngột

Vận hành đơn giản – Thân thiện người dùng

• Thiết kế góc nghiêng 45° giúp quan sát và thao tác dễ dàng

• Màn hình cảm ứng trực quan, thân thiện với người vận hành

• Giảm thời gian đào tạo, tăng hiệu suất sử dụng thực tế

4. Giá trị ứng dụng thực tiễn

Nhờ sự kết hợp giữa độ chính xác cơ học và hệ thống điều khiển thông minh, Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm được ứng dụng hiệu quả trong các lĩnh vực như:

• Điện tử & bán dẫn

• Ô tô – linh kiện nhựa, cao su kỹ thuật

• Thiết bị y tế và vật liệu kỹ thuật cao

• Dây chuyền sản xuất yêu cầu truy xuất dữ liệu và kiểm soát chất lượng nghiêm ngặt

Tư vấn & báo giá Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm

Bạn đang tìm kiếm Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm phù hợp với dây chuyền sản xuất hiện tại hoặc cần tích hợp hệ thống MES?

👉 Liên hệ Ms. Yuna để được tư vấn kỹ thuật chi tiết và báo giá nhanh chóng:

Ms. Yuna
📞 Hotline: +84 965 535 348
📧 Email: sales03@cousz.com

Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm

Thiết bị phun phủ Plasma CVP 2.5mm mang lại khả năng xử lý bề mặt chính xác, điều khiển thông minh, dễ tích hợp tự động hóa.

Product SKU: LOWP04V

Product Brand: COUSZ

Product Currency: VND

Product Price: 8888

Price Valid Until: 2025-12-31

Product In-Stock: InStock