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氢气真空等离子清洗设备——金属氧化层高效去除方案
在电子、半导体及高端精密机械等精密制造行业中，去除金属表面的微观氧化层是确保粘接性能和产品可靠性的关键环节。氢气真空等离子清洗设备被视为先进的表面处理解决方案，能够在高效去除金属氧化物的同时，安全保护表面敏感的有机层。
1. 氢气真空等离子清洗设备简介
氢气真空等离子清洗设备是一种在低压真空环境下，利用氢气（H₂）进行表面处理的等离子技术。与传统的化学或机械清洗方式不同，该系统在微观层级作用于材料表面，可恢复洁净且高活性的金属表面，同时不会引起腐蚀、变形或材料损伤。
该技术尤其适用于对精度要求极高的应用领域，如半导体制造、电子元器件、新能源电池、医疗器械以及带有薄有机涂层的金属零部件。
2. 工作原理——无损去除金属氧化层
氢气真空等离子清洗设备的核心原理是在真空腔体内，通过射频（RF）电源激发氢气产生等离子体。高活性的氢离子及自由基（H*）可实现以下作用：
-
与金属氧化物（如 CuO、NiO、Fe₂O₃）发生选择性反应
-
将金属氧化物还原为纯金属及挥发性副产物（H₂O）
-
不破坏或损伤聚合物、胶黏剂或薄型保护涂层等敏感有机层
因此，该系统可实现对金属表面微观氧化层的洁净、均匀且可控的去除，这是许多传统工艺难以达到的效果。
3. 典型技术参数
标准 氢气真空等离子清洗设备通常具备以下配置：
| 项目 | 参数 | 项目 | 参数 |
|---|---|---|---|
| 设备外形尺寸 | 760W × 1435H × 757D (mm) | 处理腔体尺寸 | 310W × 320H × 330D (mm) / 30 L |
| 有效处理面积 | 250W × 260D (mm) | 有效处理层数 | 1 ~ 5 层（标准 3 层） |
| 主电源 | 380V (±10%) AC，50Hz ~ 60Hz | 等离子电源 | RF 13.56 MHz（300 W） |
| 真空系统 | 直联式旋片真空泵，双级油泵 | 控制方式 | PLC + HMI 触控屏（可存储 50 组工艺） |
| 运行模式 | 自动 / 手动（可切换） | ||
| 气体流量控制 | 高精度质量流量控制器（0 ~ 300 ml/min） | 气路系统 | 标准单气路（O₂、N₂、Ar、CF₄ 等） |
| 工作真空度 | 10 ~ 150 Pa | 设备功率 | ≤ 2 kW |
| 进气压力 | O₂、N₂、Ar、CF₄：0.4 ~ 0.5 MPa | ||
| 冷却气体（纯 N₂） | 0.3 ~ 0.4 MPa | 压缩空气（启动阀） | ≥ 0.4 MPa |
| 清洗周期 | 单次清洗时间 < 5 分钟 | ||
| 工艺流程 | 抽真空 + 等离子清洗 + 破真空 | 备注 | 实际时间取决于产品及工艺要求 |
4. 使用氢气真空等离子清洗设备的经济效益
投资 氢气真空等离子清洗设备可为企业带来显著的经济优势：
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减少化学品使用，无有害废水排放
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金属表面更稳定，延长零部件使用寿命
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提高良品率，降低生产不良率
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易于自动化，节省人工并实现流程标准化
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满足严格的环保法规及出口标准
结论
凭借其对金属微观氧化层的高效去除能力、对敏感有机表面的安全保护以及对运行成本的优化优势，氢气真空等离子清洗设备已成为追求高精度、可持续及现代化制造企业的理想选择。
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氢气真空等离子清洗设备
氢气真空等离子清洗设备可高效去除金属微观氧化层，同时保护敏感有机表面，适用于电子、半导体及精密制造行业。
Product SKU: VACUUMH2C
Product Brand: COUSZ
Product Currency: VND
Product Price: 8888
Price Valid Until: 2025-12-31
Product In-Stock: InStock
admin –
技术咨询: Ms Yuna
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