Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 – Giải pháp làm sạch oxit kim loại tối ưu

Trong các ngành sản xuất linh kiện chính xác, điện tử và cơ khí cao cấp, việc loại bỏ lớp oxit vi mô trên bề mặt kim loại là yêu cầu bắt buộc để đảm bảo độ bám dính và độ ổn định của sản phẩm. Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 được xem là giải pháp tiên tiến, cho phép làm sạch oxit hiệu quả mà vẫn bảo vệ an toàn các lớp hữu cơ nhạy cảm trên bề mặt.

1. Giới thiệu về Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2

Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 là công nghệ xử lý bề mặt sử dụng khí Hydro (H2) trong môi trường chân không áp suất thấp. Khác với các phương pháp xử lý hóa học hoặc cơ học truyền thống, hệ thống này tác động ở cấp độ vi mô, giúp khôi phục bề mặt kim loại sạch và hoạt tính cao mà không gây ăn mòn hay biến dạng vật liệu.

Công nghệ này đặc biệt phù hợp cho các ứng dụng yêu cầu độ chính xác cao như bán dẫn, linh kiện điện tử, pin năng lượng, linh kiện y tế và các chi tiết kim loại có phủ lớp hữu cơ mỏng.

2. Nguyên lý hoạt động – Làm sạch oxit không gây hư hại

Nguyên lý cốt lõi của Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 là tạo plasma từ khí Hydro dưới tác động của nguồn RF trong buồng chân không. Các ion và gốc H* có hoạt tính cao sẽ:

• Phản ứng chọn lọc với lớp oxit kim loại (như CuO, NiO, Fe₂O₃)

• Khử oxit thành kim loại nguyên chất và các sản phẩm bay hơi (H₂O)

• Không phá vỡ hoặc làm hư hại các lớp hữu cơ nhạy cảm như polymer, keo hoặc lớp phủ bảo vệ mỏng

Nhờ đó, hệ thống cho phép loại bỏ lớp oxit vi mô trên bề mặt kim loại một cách sạch, đồng đều và an toàn – điều mà nhiều phương pháp truyền thống không thể đáp ứng.

3. Thông số kỹ thuật tiêu biểu của hệ thống

Một Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 tiêu chuẩn thường bao gồm:

4. Lợi ích kinh tế khi sử dụng Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2

Việc đầu tư Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 mang lại nhiều lợi ích kinh tế rõ rệt:

• Giảm chi phí hóa chất, không phát sinh nước thải độc hại

• Kéo dài tuổi thọ linh kiện nhờ bề mặt kim loại sạch và ổn định

• Tăng tỷ lệ đạt chất lượng, giảm phế phẩm trong sản xuất

• Tiết kiệm nhân công, dễ tự động hóa và chuẩn hóa quy trình

• Đáp ứng các tiêu chuẩn môi trường và xuất khẩu khắt khe

Kết luận

Với khả năng làm sạch lớp oxit kim loại vi mô hiệu quả, an toàn cho các lớp hữu cơ nhạy cảm và tối ưu chi phí vận hành, Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 là lựa chọn lý tưởng cho doanh nghiệp hướng tới sản xuất chính xác, bền vững và hiện đại.

📞 Tư vấn & báo giá Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2

Bạn đang cần giải pháp loại bỏ oxit kim loại mà không làm hư hại bề mặt sản phẩm?

Liên hệ Ms. Yuna

• Hotline: +84 965 535 348

• Email: sales03@cousz.com

Hệ thống xử lý Plasma chân không khí

Hệ thống xử lý Plasma chân không khí H2 giúp làm sạch lớp oxit kim loại vi mô, không hư hại lớp hữu cơ, tối ưu chi phí và hiệu suất sản xuất.

Product SKU: VACUUMH2V

Product Brand: COUSZ

Product Currency: VND

Product Price: 8888

Price Valid Until: 2025-12-31

Product In-Stock: InStock